Hochvakuumbeschichtungsanlage

HochvakuumbeschichtungsanlageAnwendungen:

Aufdampfen und Sputtern dünner Filme
Substrattemperaturen bis 300 °C
Herstellung thermochemischer Umwandlungsschichten

Technische Daten:

pmin: ≈ 10^(-5) Pa
d: ≈ 650 mm
h: ≈ 45 mm
diverse Flansche und Durchführungen